製品概要
弊社の RIE エッチャー 12- インチ (反応性イオン エッチャー) は、弊社が独自に開発した精密ドライ エッチング装置であり、高度なマイクロ- ナノ処理向けに特別に調整されています。-この技術の核心は、物理的なイオン衝撃と化学反応メカニズムを組み合わせたもので、従来のエッチング技術を長らく悩ませてきた、扱いにくい「精度-バランス制御」のボトルネックをついに突破します。優れた異方性エッチング能力と極めて高い材料選択性を誇り、-半導体製造、MEMS 開発、光電子デバイス製造の主要なプロセス ツールとなっています。-ハイエンドの研究室で研究を行っている場合でも、工業的な大量生産を強化している場合でも、このシリーズは信頼できる安定した信頼性の高いプロセス ソリューションを提供します。
アプリケーション
- 半導体製造: フロントエンドのトランジスタ パターニング、バックエンドの TSV エッチング、-チップ プロセスの縮小に必要な SOI 基板の処理-にこれを使用しています。-
- MEMS デバイス開発: マイクロ センサー、アクチュエーター、流体チップの正確な処理を実現し、シリコンやポリマー上に 3D 構造（アスペクト比最大 20:1）を確実にエッチングします。
- オプトエレクトロニクス産業: 光導波路、LED エピタキシャル ウェーハ、光検出器に使用されます。-緻密な構造制御により光効率が向上します。
- ナノテクノロジー研究: ALE 技術と組み合わせることで、2D 材料 (グラフェン、MoS₂) およびナノ- パターンに対して原子-レベルの材料除去-を非常に信頼性高く実行します。
利点
ユニ-ボディのデザイン コンセプト:
顕著な設置面積（基準 1.0m* 1.0m）-
チャンバー中央の均一なポンプダウン-:
プロセスパフォーマンスの向上
シャワーヘッドのガス供給-も設定できます:
プリセットパラメータとして個別にチューニング
プラズマ放電ギャップは次のように設定できます。
プリセットパラメータとして個別にチューニング
コストまたはパフォーマンスの重視はオプション:
RF、ポンプ、値など要件に応じて
サンプル処理はオプションです:
-ロードまたはロード-ロックを開きます
パラメータ
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仕様 |
パラメータ |
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ウェーハサイズ範囲 |
4、6、8、12 インチまたはマルチ-ウェーハはオプション |
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エッチング材料 |
Si-系(Si/SiO2/SiNx/SiC/石英など)、化合物 |
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真空 |
TMP&メカニカルポンプ |
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RF電力 |
フルレンジ 300 ～ 1000W、オプション |
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ガスシステム |
4 ライン (標準) またはカスタマイズされた |
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ウェーハ冷却 |
水冷またはHe背面冷却（オプション） |
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ウエハステージ |
-70度から200度まで、オプション |
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不均一性- |
±5%以内(エッジ除外) |
よくある質問
RIE エッチャー 12 インチではどのような種類の材料を処理できますか?
Si- ベースの材料、化合物半導体、1D&2D 材料、金属などをカバーしており、関連材料の故障解析もサポートしています。
どのようなウェーハサイズがサポートされていますか?
4/6/8/12- インチのウェーハおよびマルチウェーハ処理と互換性があり、特殊なサイズに合わせてカスタマイズされたソリューションを利用できます。
エッチングの均一性とは何ですか？
不均一性は-<±5% after edge exclusion, ensuring full-wafer processing consistency.
ウエハステージの温度範囲はどのくらいですか？
オプションの -70 度～200 度。-低温から高温のエッチング プロセスの要件を満たします。
標準構成にはガスラインが何本ありますか?カスタマイズできますか?
標準構成には 4 つのガス ラインが含まれており、複雑なプロセスのニーズに応じてカスタマイズおよび拡張できます。
RF電力範囲はどれくらいですか?
300 ～ 1000 W の全範囲をカバーし、オンデマンドで選択可能。
サンプルの取り扱い方法にはどのようなものがありますか?
オープン-ロードとロード-ロックの 2 つのオプションを提供し、さまざまな生産効率と環境制御のニーズに適応します。
どのような真空システムが搭載されていますか?
TMPターボ分子ポンプとメカニカルポンプの組み合わせを採用し、エッチングに必要な安定した真空環境を確保します。
設備のメンテナンスは便利ですか？
統合設計により内部構造が簡素化され、主要コンポーネントのメンテナンスが容易になり、ダウンタイムとメンテナンスの困難さが軽減されます。
プラズマの放電ギャップは調整できますか?
プロセス要件に応じてプリセットパラメータとして設定および調整して、正確なエッチング制御を実現できます。
コスト重視またはパフォーマンス重視の構成オプションをサポートしていますか?{0}
両方の構成をサポートします。 RF 電源、ポンプ、バルブなどの主要コンポーネントをオンデマンドで選択して、コストのバランスをとったり、パフォーマンスを向上させることができます。
ウエハ冷却方法のカスタマイズは可能ですか？
水冷と He 背面冷却の 2 つのオプションをサポートしており、特別なニーズに合わせてカスタマイズされたソリューションを利用できます。
人気ラベル: リー エッチャー 12 インチ、中国のリー エッチャー 12 インチ メーカー、サプライヤー
